VI
EN
Trang chủ
Thông tin chung
Lịch sử thành lập
Chức năng nhiệm vụ
Cơ cấu tổ chức
Ban lãnh đạo Viện
Hội đồng khoa học
Phòng Quản lý tổng hợp
Các đơn vị nghiên cứu triển khai
Hướng nghiên cứu về Vật liệu điện tử
Hướng nghiên cứu về Quang học quang phổ
Hướng Nghiên cứu về Vật liệu kim loại, Polyme và Compozit
Hướng nghiên cứu về Công nghệ Đất hiếm và Môi trường
Hướng nghiên cứu về Kỹ thuật nhiệt đới
Tổ chức Đảng - Đoàn thể quần chúng
Ban lãnh đạo viện qua các thời kỳ
Công khai dự toán, quyết toán NSNN
Biểu mẫu
Quy trình ngân sách 2025
Hướng dẫn tổ tin học
Biểu mẫu hợp tác quốc tế
Biểu mẫu văn bản đào tạo
Biểu mẫu đề tài, dự án
Biểu mẫu chung
Công khai Thông tin
Công khai thông tin Dự án
Công khai Thư mời báo giá
Các đơn vị nghiên cứu
Hướng nghiên cứu về Vật liệu điện tử
Hướng nghiên cứu về Quang học quang phổ
Hướng Nghiên cứu về Vật liệu kim loại, Polyme và Compozit
Hướng nghiên cứu về Công nghệ Đất hiếm và Môi trường
Hướng nghiên cứu về Kỹ thuật nhiệt đới
Hội nghị - Hội thảo
Hội nghị Khoa học vật liệu tiên tiến và công nghệ nano IWAMSN
Hội nghị vật lý chất rắn & Khoa học vật liệu toàn quốc
Các hội nghị khác
Công bố - Xuất bản
Các công bố khoa học trên tạp chí quốc tế
Sáng chế - Giải pháp hữu ích
Báo cáo thường niên
Hợp tác quốc tế
OMS
Email
Liên hệ
Trang chủ
Tiềm lực trang thiết bị nghiên cứu
Sputtering Equipment
11/11/2021 - 11:50 PM
Cỡ chữ
Các thông số kỹ thuật
Vaccum chamber (10-6)
Material: stainless steel
Inside width: 420 mm
Inside depth: 480 mm
Inside height: 550 mm
RF/DC co-sputtering capable (one RF gun and one DC gun running simultaneously)
Samples holder
The 8 inch (200 mm) diameter sample holder allows to hold 1 sample up to 8 inches (200 mm) in diameter or 4 samples for 2 inch diameter.
Speed of rotation of sample holder: 0 – 20 rpm
Infrared heater: 750°C.
RF sputtering source power: 600 W at 13.56 MHz frequency
DC sputtering source power: 1000 W, output voltage of 1000 V.
Using a quartz probe to measure the sputtering film thickness.
Tính năng thiết bị
Leybold's UNIVEX 400 sputtering device is an important device in the fabrication technique of thin films based on physical methods and is integrated with both DC and RF sources. It can be used to fabricate single films as well as multilayer films for many different materials.
Về trang trước
Gửi email
In trang
Kính hiển vi điện tử truyền qua độ phân giải cao
Thiết bị đo khả năng hấp phụ hydro của vật liệu
Phòng sạch
Kính hiển vi điện tử quét phát xạ trường
Thiết bị DC - Plasma dùng cho chế tạo vật liệu
Máy quang phổ Raman
THIẾT BỊ THỬ NGHIỆM CƠ LÝ VẬT LIỆU ĐA NĂNG AGX-50kNVD
Kính Hiển vi Điện tử quét (SEM) JMS-6510LV
Máy đo điện hóa biologic VSP300
Lò tần số chân không cao 2000oC Model: IMCS-2000
Hệ thiết bị CVD nhiệt
THIẾT BỊ PHÂN TÍCH DIỆN TÍCH BỀ MẶT VÀ LỖ XỐP TriStar II
THIẾT BỊ PHÂN TÍCH CỠ HẠT NANO SZ-100Z2
THIẾT BỊ PHÂN TÍCH NHIỆT QUÉT VI SAI DSC204F1
MÁY QUANG PHỔ HỒNG NGOẠI Nicolet iS10
THIẾT BỊ THỬ NGHIỆM GIA TỐC THỜI TIẾT QUV/spray
Thiết bị phun phủ HVOF HipoJet-2700-M
TỦ THỬ NGHIỆM MÔI TRƯỜNG EX10-1-4-AC-H-X
THIẾT BỊ THỬ NGHIỆM PHUN MÙ MUỐI CRH 1100-HSC
Thiết bị quang khắc URE 2000S
Kính hiển vi huỳnh quang độ phân giải cao
Thông tin nổi bật
LĨNH VỰC NỔI BẬT
Nghiên cứu khoa học, phát triển công nghệ, ứng dụng và chuyển giao sản phẩm, dịch vụ KHCN; hợp tác quốc tế và đào tạo trong lĩnh vực khoa học công nghệ vật liệu và các lĩnh vực khác có liên quan.
32 + Năm thành lập
Thành lập ngày 11 tháng 6 năm 1993
Khen thưởng
- 02 Huân chương Độc lập hạng ba- 02 Huân chương Lao động hạng nhất
275 + Cán bộ
07 Giáo sư, 23 Phó giáo sư, 21 Nghiên cứu viên cao cấp, 103 Tiến sĩ …
Liên kết website
Bộ Khoa học và công nghệ
Viện Hàn lâm Khoa học và Công nghệ Việt Nam
Hội Vật Lý Việt Nam
Học viện Khoa học và Công nghệ
Advances in Natural Sciences: Nanoscience and Nanotechnology
The Vietnam Journal of Chemistry
Cục sở hữu trí tuệ
Vietnam Journal of Science and Technology (VJST)